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EPITAXIAL 数据表, PDF

搜索关键字 : 'EPITAXIAL' - 的资料共: 143 (1/8) Pages
制造商部件名数据表功能描述
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什么是 EPITAXIAL


在电子组件中,“外延”是半导体制造技术中使用的术语,是指形成具有关键增长过程的半导体层的技术。该技术用于改善半导体设备的性能,尤其是在基于硅的半导体制造中。

外延沉积是在现有的半导体原型上沉积一个或多个额外层的过程。该过程也称为外延,通常使用诸如化学蒸气沉积(CVD)或物理蒸气沉积(PVD)等方法进行。

外延沉积用于多种目的:

提高性能:通过形成比半导体设备的基本材料形成更高质量的晶体结构,可以提高电子迁移率和速度。

掺杂:在外延过程中,可以掺杂特定的原子或离子以产生所需的电性能。

改善的稳定性:外延层具有与基础原型相同的晶格结构,使其比其他技术形成的层更稳定。

设备集成:外延过程用于通过沉积多层将多个设备集成到单个半导体芯片中。

外延沉积被认为是半导体制造中的关键技术,在提高半导体设备的性能和效率方面起着关键作用。该技术构成了在半导体行业开发各种产品的基础,包括高性能的微处理器,记忆芯片和LED。

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